1、無(wú)異味,硫化后不產(chǎn)生新的低分子
2、一次硫化完成,無(wú)需二次硫化
3、成型后的產(chǎn)品物理性能優(yōu)異
4、成型硫化速度快,成型溫度低
1、無(wú)異味,硫化后不產(chǎn)生新的低分子
2、一次硫化完成,無(wú)需二次硫化
3、成型后的產(chǎn)品物理性能優(yōu)異
4、成型硫化速度快,成型溫度低
1、無(wú)異味,硫化后不產(chǎn)生新的低分子
2、一次硫化完成,無(wú)需二次硫化
3、成型后的產(chǎn)品物理性能優(yōu)異
4、成型硫化速度快,成型溫度低
1、無(wú)異味,硫化后不產(chǎn)生新的低分子
2、一次硫化完成,無(wú)需二次硫化
3、成型后的產(chǎn)品物理性能優(yōu)異
4、成型硫化速度快,成型溫度低
1、無(wú)異味,硫化后不產(chǎn)生新的低分子
2、一次硫化完成,無(wú)需二次硫化
3、成型后的產(chǎn)品物理性能優(yōu)異
4、成型硫化速度快,成型溫度低
1、無(wú)異味,硫化后不產(chǎn)生新的低分子
2、一次硫化完成,無(wú)需二次硫化
3、成型后的產(chǎn)品物理性能優(yōu)異
4、成型硫化速度快,成型溫度低
1、無(wú)異味,硫化后不產(chǎn)生新的低分子
2、一次硫化完成,無(wú)需二次硫化
3、成型后的產(chǎn)品物理性能優(yōu)異
4、成型硫化速度快,成型溫度低
1、無(wú)異味,硫化后不產(chǎn)生新的低分子
2、一次硫化完成,無(wú)需二次硫化
3、成型后的產(chǎn)品物理性能優(yōu)異
4、成型硫化速度快,成型溫度低
FAST TRACK